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4億美元太貴！臺(tái)積電仍拒絕購(gòu)買ASML的High-NA EUV設(shè)備
- 目前，生產(chǎn)尖端半導(dǎo)體必不可少的EUV（極紫外）光刻設(shè)備由荷蘭ASML獨(dú)家供應(yīng)，而臺(tái)積電2nm工藝就是利用現(xiàn)有的EUV設(shè)備實(shí)現(xiàn)晶圓的大規(guī)模量產(chǎn)，并保持較高的良率。但隨著推進(jìn)到更先進(jìn)的次2nm節(jié)點(diǎn) —— 即1.4nm與1nm（分別代號(hào)A14與A10）—— 制造工藝將面臨更多技術(shù)瓶頸。理論上，這些問題可以通過(guò)采購(gòu)ASML的最先進(jìn)High-NA EUV設(shè)備來(lái)解決，但最新消息稱臺(tái)積電選擇的方向并非購(gòu)買新設(shè)備，而是轉(zhuǎn)向使用光掩模薄膜（Photomask Pellicles）。什么是High-NA光刻機(jī)？從早期的深紫外
- 關(guān)鍵字： 臺(tái)積電 ASML High-NA EUV 2nm
ASML警告中國(guó)銷量下降或加劇26年增長(zhǎng)擔(dān)憂
- 荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備巨頭、芯片制造光刻機(jī)的主要供應(yīng)商 ASML Holding NV 于 2025 年 10 月 15 日發(fā)布了 2025 年第三季度財(cái)報(bào)。結(jié)果顯示，在人工智能需求的推動(dòng)下，訂單量強(qiáng)勁，但也對(duì) 2026 年對(duì)中國(guó)的銷售額將大幅下降發(fā)出了嚴(yán)厲警告。雖然該公司試圖向投資者保證整體增長(zhǎng)將保持穩(wěn)定，但這一消息凸顯了芯片行業(yè)不斷升級(jí)的地緣政治緊張局勢(shì)。以下是主要亮點(diǎn)的細(xì)分。財(cái)務(wù)業(yè)績(jī)ASML 公布了穩(wěn)健的第三季度業(yè)績(jī)，盡管凈利潤(rùn)持平，但預(yù)訂量超出預(yù)期：凈銷售額：77 億歐元，同比增長(zhǎng) 8%，但略低于分析師預(yù)
- 關(guān)鍵字： ASML EUV 芯片工具
三星購(gòu)買了兩款A(yù)SML高數(shù)值孔值EUV工具
- 據(jù)《韓國(guó)經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)》報(bào)道，據(jù)報(bào)道，三星將于今年晚些時(shí)候收到其首款高數(shù)值孔徑 （high-NA） EUV 掃描儀——Twinscan EXE：5200B，隨后將于 2026 年上半年推出第二臺(tái)掃描儀。報(bào)告補(bǔ)充說(shuō)，雖然該公司已經(jīng)在其華城市園區(qū)運(yùn)營(yíng)了一種研究用途的高 NA EUV 工具，但新系統(tǒng)將標(biāo)志著其首次旨在大規(guī)模生產(chǎn)的收購(gòu)。報(bào)告指出，競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電目前正在測(cè)試該系統(tǒng)的研發(fā)版本，但尚未將其部署用于商業(yè)規(guī)模制造。報(bào)道援引消息人士的話稱，SK海力士在9月份證實(shí)已經(jīng)訂購(gòu)了生產(chǎn)級(jí)高NA EUV系統(tǒng)。據(jù)報(bào)道援引消息人士
- 關(guān)鍵字： 三星 ASML 高數(shù)值孔值 EUV
ASML警告明年來(lái)自中國(guó)的需求可能大幅下滑
- 荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML第三季訂單表現(xiàn)優(yōu)于分析師預(yù)期，并表示明年銷售額將至少與2025年持平，主要受惠于全球企業(yè)大規(guī)模投資AI領(lǐng)域、對(duì)芯片制造設(shè)備的需求。同時(shí)，ASML也警告說(shuō)，明年來(lái)自中國(guó)的需求可能大幅下滑。ASML發(fā)布了2025年第三季度財(cái)報(bào)，財(cái)報(bào)顯示第三季度實(shí)現(xiàn)凈銷售額75億歐元，凈利潤(rùn)21億歐元，毛利率為51.6%，整體表現(xiàn)符合此前預(yù)期。更值得關(guān)注的是，本季度新增訂單金額達(dá)到54億歐元，其中EUV（極紫外光刻）訂單高達(dá)36億歐元，占比超過(guò)三分之二，充分反映出全球半導(dǎo)體制造商對(duì)先進(jìn)制程光刻設(shè)備的
- 關(guān)鍵字： ASML 財(cái)報(bào) EUV
ASML發(fā)布2025年第三季度財(cái)報(bào)
- 阿斯麥（ASML）近日發(fā)布2025年第三季度財(cái)報(bào)。2025年第三季度，ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額75億歐元，毛利率為51.6%，凈利潤(rùn)達(dá)21億歐元。第三季度的新增訂單金額為54億歐元2，其中36億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2025年第四季度凈銷售額在92億至98億歐元之間，毛利率介于51%至53%；預(yù)計(jì)2025年全年凈銷售額將同比增長(zhǎng)約15%，毛利率約為52%。此外，ASML預(yù)計(jì)2026年凈銷售額將不低于2025年水平。（除非特別說(shuō)明，數(shù)字均以百萬(wàn)歐元為單位）2025年第二季度2025年第三季度凈銷售
- 關(guān)鍵字： ASML
ASML任命新任首席技術(shù)官
- ●? ?畢慕科（Marco Pieters）被任命為?ASML?首席技術(shù)官●? ?ASML監(jiān)事會(huì)計(jì)劃在2026年4月年度股東大會(huì)時(shí)再次任命戴厚杰（Roger Dassen）為首席財(cái)務(wù)官以及樊徳睿（Frédéric Schneider-Maunoury）為首席運(yùn)營(yíng)官，并任命首席技術(shù)官畢慕科（Marco Pieters）為管理委員會(huì)成員。ASML新任首席技術(shù)官畢慕科（Marco Pieters）ASML近日宣布任命畢慕科（Marco Pieters）
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美眾議院“中美戰(zhàn)略競(jìng)爭(zhēng)特別委員會(huì)”發(fā)布涉華半導(dǎo)體關(guān)鍵設(shè)備出口調(diào)查報(bào)告
- 根據(jù)SEMI和SEAJ的數(shù)據(jù)，2025年第二季度全球半導(dǎo)體制造設(shè)備支出總計(jì)330.7億美元，2025年第二季度的支出較2024年第二季度增長(zhǎng)23%。其中，中國(guó)大陸的支出最高，為113.6億美元，占總支出的34%。值得注意的是，中國(guó)大陸2025年第二季度的支出較2024年第二季度下降了7%。10月7日，美國(guó)眾議院“中美戰(zhàn)略競(jìng)爭(zhēng)特別委員會(huì)”兩黨議員在經(jīng)過(guò)數(shù)月的調(diào)查之后發(fā)現(xiàn)，包括荷蘭的阿斯麥（ASML）、日本的東京電子（TEL）以及美國(guó)的應(yīng)用材料公司（Applied Materials）、科磊（KLA）和泛林集
- 關(guān)鍵字： 半導(dǎo)體 芯片 閃存 ASML 東京電子 應(yīng)用材料
ASML的設(shè)備是制造AI芯片的關(guān)鍵，但為什么它錯(cuò)過(guò)了AI紅利
- ASML 是一家荷蘭巨頭，幾乎壟斷了先進(jìn)人工智能芯片所必需的極紫外 （EUV） 光刻機(jī)，它處于有利地位，可以利用數(shù)據(jù)中心的激增。然而，由于 2026 年增長(zhǎng)不確定的警告，其股價(jià)在過(guò)去一年中僅上漲了 11%，表現(xiàn)落后于同行。核心問題：依賴少數(shù)主要客戶，其中以控制先進(jìn)芯片生產(chǎn)的臺(tái)積電（臺(tái)積電）為主。ASML 依靠芯片制造商之間的競(jìng)爭(zhēng)而蓬勃發(fā)展，這些競(jìng)爭(zhēng)刺激了設(shè)備升級(jí)，但臺(tái)積電的領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)扼殺了這種動(dòng)力。ASML 的最新創(chuàng)新高數(shù)值孔徑 （High NA） EUV 機(jī)器每臺(tái)成本超過(guò) 4 億美元，承諾為更小、更高效的
- 關(guān)鍵字： ASML 設(shè)備 AI芯片 AI紅利
ASML 和 SK hynix 在韓國(guó)的工廠組裝了業(yè)界首個(gè)“商用”High NA EUV 系統(tǒng)
- ASML 的 Twinscan EXE:5200N 配備 0.55 NA 鏡頭，實(shí)現(xiàn) 8 納米分辨率——而當(dāng)前 Low-NA EUV 工具的分辨率僅為 13 納米——使得單次曝光下晶體管尺寸縮小 1.7 倍，晶體管密度提高 2.9 倍。雖然 Low-NA 工具可以通過(guò)昂貴的多重圖形匹配來(lái)達(dá)到這一效果，但 High-NA EUV 簡(jiǎn)化了光刻步驟，盡管這帶來(lái)了新的技術(shù)挑戰(zhàn)。鑒于 High-NA EUV 機(jī)器的能力，芯片制造商可以避免雙重或三重 EUV 圖形匹配，因此 NXE:5200B 將首先用于快速推進(jìn)下一
- 關(guān)鍵字： EUV 光刻機(jī) ASML 海力士
美國(guó)對(duì)ASML設(shè)備免征15%的關(guān)稅
- 近日，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML宣布，其新一代高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)EXE:5200已正式出貨，標(biāo)志著該技術(shù)已準(zhǔn)備好投入批量生產(chǎn)。根據(jù)最新報(bào)道，美國(guó)與歐盟委員會(huì)主席簽署的貿(mào)易協(xié)定中，對(duì)進(jìn)入美國(guó)的歐洲制造商品征收15%的關(guān)稅，但半導(dǎo)體制造設(shè)備等特定商品在零關(guān)稅安排下可享受豁免。這意味著ASML的設(shè)備在美國(guó)市場(chǎng)不會(huì)因關(guān)稅上漲而增加成本。報(bào)告指出，若對(duì)ASML設(shè)備征收15%的關(guān)稅，每臺(tái)DUV系統(tǒng)的成本將增加約1300萬(wàn)美元，每臺(tái)EUV設(shè)備的成本將增加高達(dá)4000萬(wàn)美元，這將大幅增加英特爾、三星和臺(tái)積電等企業(yè)的
- 關(guān)鍵字： ASML 半導(dǎo)體設(shè)備 關(guān)稅
歐盟晶圓廠設(shè)備制造商在歐盟-美國(guó)關(guān)稅協(xié)議中獲得暫緩——阿斯麥等公司將被免征15%關(guān)稅
- （圖片來(lái)源：ASML）美國(guó)總統(tǒng)和歐洲委員會(huì)主席本周早些時(shí)候簽署的貿(mào)易協(xié)議對(duì)幾乎所有在歐洲制造并運(yùn)往美國(guó)的商品征收 15%的關(guān)稅，但有幾類產(chǎn)品將免稅，包括半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備，這些設(shè)備將享受零關(guān)稅。因此，像 ASML 這樣的公司生產(chǎn)的工具在美國(guó)不會(huì)變得更貴。歐洲委員會(huì)的一份聲明稱：“我們還就一些戰(zhàn)略產(chǎn)品達(dá)成了零關(guān)稅的協(xié)議?！?nbsp;聲明中寫道?！斑@包括所有飛機(jī)及其零部件、某些化學(xué)品、某些通用藥品、半導(dǎo)體設(shè)備、某些農(nóng)產(chǎn)品、自然資源和關(guān)鍵原材料。我們將繼續(xù)努力將更多產(chǎn)品添加到這個(gè)清單中?！比绻绹?guó)對(duì) ASML 生
- 關(guān)鍵字： ASML 光刻機(jī) 關(guān)稅
ASML 警告 2026 年增長(zhǎng)停滯，地緣政治風(fēng)險(xiǎn)威脅十年發(fā)展
- 根據(jù)路透社報(bào)道，ASML 今日發(fā)布了其 2025 年第二季度的財(cái)務(wù)業(yè)績(jī)。雖然第二季度訂單量超出了市場(chǎng)預(yù)期，但該公司警告稱，2026 年的增長(zhǎng)可能將達(dá)不到預(yù)期。如其 新聞稿所述，ASML 指出，雖然人工智能客戶的基本面在進(jìn)入 2026 年時(shí)保持強(qiáng)勁，但宏觀經(jīng)濟(jì)和地緣政治因素的上升不確定性使得目前難以確認(rèn) 2026 年的增長(zhǎng)。如果這種情況發(fā)生，2026年將成為自2012年以來(lái)首次沒有收入增長(zhǎng)的一年——路透社指出，打破了不間斷增長(zhǎng)的記錄。同時(shí)，ASML 表示，現(xiàn)在預(yù)計(jì) 2025 年全年凈銷售
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ASML發(fā)布2025年第二季度財(cái)報(bào)
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- 關(guān)鍵字： ASML 2025年第二季度財(cái)報(bào)
ASML研發(fā)5納米分辨率Hyper NA光刻機(jī)
- 據(jù)外媒報(bào)道，ASML正與蔡司（Carl Zeiss）合作，啟動(dòng)研發(fā)分辨率可達(dá)5納米的Hyper NA光刻機(jī)設(shè)備。ASML技術(shù)執(zhí)行副總裁Jos Benschop表示，這種新型光刻機(jī)將滿足2035年及之后的芯片制造需求。目前，ASML剛剛開始出貨最先進(jìn)的光刻機(jī)，其單次曝光分辨率可達(dá)8納米，相比舊款設(shè)備需要多次曝光才能實(shí)現(xiàn)類似效果。Benschop還提到，ASML正與蔡司進(jìn)行設(shè)計(jì)研究，目標(biāo)是開發(fā)數(shù)值孔徑（NA）達(dá)到0.7或更高的系統(tǒng)。數(shù)值孔徑是衡量光學(xué)系統(tǒng)聚焦能力的重要指標(biāo)，直接影響光刻分辨率。NA越高，光波長(zhǎng)
- 關(guān)鍵字： ASML 5納米 Hyper NA 光刻機(jī)
ASML杯光刻「芯 」勢(shì)力知識(shí)挑戰(zhàn)賽正式啟動(dòng)
- 這是一場(chǎng)追光人的技術(shù)狂歡也是一次深入納米芯球的探索之旅我們發(fā)出光刻英雄帖，集結(jié)菁英光刻「芯」勢(shì)力與ASML共尋技術(shù)之美【賽事介紹】ASML光刻「芯」勢(shì)力知識(shí)挑戰(zhàn)賽由全球半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)先供應(yīng)商ASML發(fā)起，是一項(xiàng)面向中國(guó)半導(dǎo)體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML在光刻領(lǐng)域的技術(shù)積累與行業(yè)洞察，賽事致力于為參賽者打造一個(gè)深度探索光刻技術(shù)的知識(shí)競(jìng)技窗口，同時(shí)培養(yǎng)優(yōu)秀科技「芯」勢(shì)力，共同推動(dòng)摩爾定律演進(jìn)。本次挑戰(zhàn)賽聚焦光刻技術(shù)教育普及，通過(guò)涵蓋光學(xué)、物理學(xué)知識(shí)的專業(yè)試題帶領(lǐng)參賽者深入了解光刻機(jī)、計(jì)算光刻、量測(cè)等
- 關(guān)鍵字： ASML 光刻
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